[发明专利]金属青铜类化合物、其制造方法以及墨水有效
申请号: | 201611145299.5 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN108611627B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 蔡明志;何羽轩 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: |
本发明提供一种金属青铜类化合物、其制造方法以及墨水。该金属青铜类化合物由下述通式(1)所表示的化合物。在通式(1)中,A表示至少一种阳离子。M表示选自过渡金属与类金属的至少两种离子。x为作为A的至少一种阳离子的数目的和。y为作为M的选自过渡金属与类金属的至少两种离子的数目的和。z为氧离子的数目。x、y与z的值使通式(1)的电荷数达到平衡。本发明的金属青铜类化合物具有较佳的物性。A |
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搜索关键词: | 金属 青铜 化合物 制造 方法 以及 墨水 | ||
【主权项】:
1.一种金属青铜类化合物,其特征在于,其为由下述通式(1)所表示的化合物,AxMyOz (1)在所述通式(1)中,A表示至少一种阳离子,M表示选自过渡金属与类金属的至少两种离子,x为作为A的所述至少一种阳离子的数目的和,y为作为M的选自所述过渡金属与所述类金属的所述至少两种离子的数目的和,z为氧离子的数目,x、y与z的值使所述通式(1)的电荷数达到平衡。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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