[发明专利]金属青铜类化合物、其制造方法以及墨水有效
申请号: | 201611145299.5 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN108611627B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 蔡明志;何羽轩 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 青铜 化合物 制造 方法 以及 墨水 | ||
1.一种金属青铜类化合物,其特征在于,其为由下述通式(1)所表示的化合物,
AxMyOz (1)
在所述通式(1)中,A表示至少一种阳离子,M表示选自过渡金属与类金属的至少两种离子,
x为作为A的所述至少一种阳离子的数目的和,y为作为M的选自所述过渡金属与所述类金属的所述至少两种离子的数目的和,z为氧离子的数目,
x、y与z的值使所述通式(1)的电荷数达到平衡,
其中A的所述至少一种阳离子包括氢离子、碱金属离子、碱土金属离子、稀土金属离子、铵类离子或其组合,
其中所述过渡金属选自于由钛、锆、铪、钒、铜、铁、钴、镍、锰、铌、钽、铼、钌以及铂所构成的群组,以及
其中所述类金属选自于由硅、硼、锗以及砷所构成的群组。
2.根据权利要求1所述的金属青铜类化合物,其特征在于,作为A的所述至少一种阳离子包括氢离子、锂离子、钠离子、钾离子、铷离子、铯离子、银离子或其组合。
3.一种金属青铜类化合物的制造方法,其特征在于,包括:
将选自过渡金属前驱物与类金属前驱物的至少两种前驱物与阳离子前驱物于溶剂中进行混合;以及
使所述过渡金属前驱物与所述类金属前驱物的所述至少两种前驱物与所述阳离子前驱物进行反应,而获得由下述通式(1)所表示的金属青铜类化合物,
AxMyOz (1)
在所述通式(1)中,A表示至少一种阳离子,M表示选自过渡金属与类金属的至少两种离子,
x为作为A的所述至少一种阳离子的数目的和,y为作为M的选自所述过渡金属与所述类金属的所述至少两种离子的数目的和,z为氧离子的数目,
x、y与z的值使所述通式(1)的电荷数达到平衡,
其中A的所述至少一种阳离子包括氢离子、碱金属离子、碱土金属离子、稀土金属离子、铵类离子或其组合
其中所述过渡金属选自于由钛、锆、铪、钒、铜、铁、钴、镍、锰、铌、钽、铼、钌以及铂所构成的群组,以及
其中所述类金属选自于由硅、硼、锗以及砷所构成的群组。
4.根据权利要求3所述的金属青铜类化合物的制造方法,其特征在于,所述过渡金属前驱物包括过渡金属烷氧化物,且所述类金属前驱物包括类金属烷氧化物。
5.根据权利要求3所述的金属青铜类化合物的制造方法,其特征在于,所述阳离子前驱物包括金属乙酰丙酮化物、金属乙酸盐、金属碳酸盐、金属碳酸氢盐、过氧化氢或其组合。
6.根据权利要求3所述的金属青铜类化合物的制造方法,其特征在于,所述反应在室温或低温下进行。
7.一种墨水,其特征在于,包括根据权利要求1所述的金属青铜类化合物。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属