[发明专利]一种砷化镓晶片打印激光标识的方法有效

专利信息
申请号: 201611122330.3 申请日: 2016-12-08
公开(公告)号: CN106425105B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 曹志颖;刘津 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;H01L23/544
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司12105 代理人: 胡京生
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种砷化镓晶片打印激光标识的方法,步骤如下激光的参数为,激光波长范围300~870nm,激光强度3W~5W,标识次数为3~5次,选定激光参数后进行激光标识,标识深度为100~200um。激光的种类可为紫光或红光。激光标识结束后对晶片表面进行清洁处理,去除标识周围因打标带来的毛刺和颗粒,以保证晶片有较好的几何参数和表面质量,然后再进行磨片及后续工序的处理。有益效果是通过多次实验,最终确定出一套适合砷化镓表面标识的激光参数,既能保证晶片有较好的几何参数和表面质量,又能方便识别和后续追溯。
搜索关键词: 一种 砷化镓 晶片 打印 激光 标识 方法
【主权项】:
一种砷化镓晶片打印激光标识的方法,对采用LEC法、VB法或VGF法生长的砷化镓单晶,断掉单晶的头尾,经滚圆制作主次参考面,用线切割机切割成一定厚度晶片,并对晶片表面进行化学腐蚀,然后经过倒角和再次化学腐蚀后,对晶片进行激光标识;先将晶片按照从头到尾的顺序进行排列,选定激光的参数在晶片表面进行激光标识,具体标识尺寸参照《砷化镓圆形晶片字母数字刻码规范》进行设定,其特征在于:所述选定激光的参数为,激光波长355nm,激光强度3W,标识次数为3次,选定激光参数后进行激光标识,标识深度为140~155µm,激光的种类为紫光;激光标识结束后对晶片表面进行清洁处理,去除标识周围因打标带来的毛刺和颗粒,以保证晶片有较好的几何参数和表面质量,然后再进行磨片及后续工序的处理。
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