[发明专利]阵列基板的制备方法及显示面板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201611046765.4 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN106783732B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 王梓轩;王飞;宋博韬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1343;G02F1/1362
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种阵列基板的制备方法和显示面板的制备方法,属于显示技术领域,其可解决现有的平坦化层的干刻工序中不可避免的会损伤到有机膜形貌,造成有机膜的表面粗糙度上升,有机膜层与封框胶的界面因此更容易出现气泡,导致高温高压测试中封框胶松脱的不良发生的问题。本发明的阵列基板的制备方法,包括:在基底上形成有机膜层;形成覆盖周边区域的有机膜层的保护层,以及形成位于显示区域的第一电极;形成平坦化层;形成位于所述显示区域的第二电极,同时去除位于所述周边区域的保护层。
搜索关键词: 阵列 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
1.一种阵列基板的制备方法,所述阵列基板划分为显示区域和环绕所述显示区域的周边区域,其特征在于,所述制备方法包括:在基底上形成有机膜层;形成覆盖所述周边区域的有机膜层的保护层,以及形成位于所述显示区域的第一电极;采用干法刻蚀,形成仅位于所述显示区域的平坦化层;形成位于所述显示区域的第二电极,同时采用湿法刻蚀去除位于所述周边区域的保护层。
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