[发明专利]阵列基板的制备方法及显示面板的制备方法有效
| 申请号： | 201611046765.4 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN106783732B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 王梓轩;王飞;宋博韬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 制备 方法 显示 面板 | ||
1.一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板划分为显示区域和环绕所述显示区域的周边区域，其特征在于，所述制备方法包括：
在基底上形成有机膜层；
形成覆盖所述周边区域的有机膜层的保护层，以及形成位于所述显示区域的第一电极；
采用干法刻蚀，形成仅位于所述显示区域的平坦化层；
形成位于所述显示区域的第二电极，同时采用湿法刻蚀去除位于所述周边区域的保护层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述形成覆盖所述周边区域的有机膜层的保护层，以及形成位于所述显示区域的第一电极是采用同一次构图工艺完成的。
3.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述在基底上形成有机膜层的步骤之前还包括：
形成薄膜晶体管的各个膜层。
4.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极中的一者为像素电极，另一者为公共电极。
5.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一电极为板状电极，所述第二电极为条状电极；或者，
所述第一电极和所述第二电极均为条状电极。
6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括权利要求1-5中任一项所述的阵列基板的制备方法。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括：提供一对盒基板；
在所述对盒基板或者所述阵列基板的周边区域形成封框胶；
将所述对盒基板和所述阵列基板对盒；
对所述封框胶进行固化。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
