[发明专利]一种二硫化钼/铅钛合金纳米多层薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611033386.1 申请日: 2016-11-16
公开(公告)号: CN106521441B 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 蒲吉斌;王立平;李浩;薛群基 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16
代理公司: 宁波元为知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33291 代理人: 单英
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种位于基体表面的二硫化钼/铅钛合金纳米多层薄膜,自基体表面起,依次包括Ti过渡层、Ti与二硫化钼的梯度过渡层、二硫化钼和铅钛合金交替叠加形成的交替多层,以及二硫化钼表层。该薄膜具有良好的膜基结合强度与硬度,在空间真空环境下具有长寿命、良好的耐湿热氧化和抗原子氧性能,能够满足空间真空特殊环境下服役的装备(例如空间站太阳翼伸展机构等)的高可靠和长寿命服役需求,具有很好的应用价值。
搜索关键词: 一种 二硫化钼 钛合金 纳米 多层 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种二硫化钼/铅钛合金纳米多层薄膜,其位于基体表面,其特征是:自基体表面起,依次包括Ti过渡层、Ti与二硫化钼的梯度过渡层、二硫化钼和铅钛合金交替叠加形成的交替多层,以及二硫化钼表层;所述的Ti过渡层厚度为100~250nm;所述的Ti与二硫化钼的梯度过渡层厚度为50~100nm;所述的交替多层总厚度为1.5~2μm;所述的二硫化钼表层厚度为100~200nm。
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