[发明专利]一种高稳定性擦亮剂的制备方法有效
| 申请号： | 201610990466.X | 申请日： | 2016-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN106634617B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 仇颖超;薛荣飞;蒋玉芳 | 申请（专利权）人： | 河北晨晨环境科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C11D10/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 050000 河北省石家庄市*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高稳定性擦亮剂的制备方法，属于擦亮剂制备技术领域。本发明首先将新鲜蜂蜡与氢氧化钾乙醇溶液进行加热回流后，在混合回流液中滴加氯化钙溶液，经加热、抽滤和干燥，再用丙酮提取，收集蜂蜡提取物，增强各擦亮剂组分间结合度与稳定性，接着以丙醇、正硅酸乙酯等物质与异丙醇混合后煅烧，收集硅掺杂氧化铝粉末，由于硅掺杂氧化铝粉末具有较高的比表面积和较强的稳定性能，在与上述蜂蜡提取物进行复合过程中，蜂蜡提取物渗透至掺杂氧化铝粉末孔隙中，抑制复合擦亮剂的分散性，提高擦亮剂结构稳定性能，有效解决其久置分层的缺陷，擦亮效果好，可广泛应用于车辆和家用设备等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 擦亮剂 蜂蜡 氧化铝粉末 提取物 高稳定性 硅掺杂 制备 氢氧化钾乙醇溶液 制备技术领域 氯化钙溶液 正硅酸乙酯 丙酮提取 复合过程 家用设备 结构稳定 稳定性能 有效解决 丙醇 分散性 回流液 结合度 异丙醇 抽滤 滴加 分层 煅烧 加热 擦亮 掺杂 复合 新鲜 应用 | ||
【主权项】：
1.一种高稳定性擦亮剂的制备方法，其特征在于具体制备步骤为：（1）按质量比1:10，将新鲜蜂蜡与质量分数5%氢氧化钾乙醇溶液搅拌混合，在80～90℃下水浴加热25～30min，随后继续加热至回流，保温回流1～2h，待回流完成后，收集得混合回流液，按质量比1:5，将质量分数5%氯化钙溶液滴加至混合回流液中，在75～80℃下保温加热1～2h，随后停止加热并静置冷却至室温，抽滤并收集滤饼，真空冷冻干燥收集得干燥滤饼；（2）按质量比1:8，将上述制备的干燥滤饼与丙酮搅拌混合，在45～50℃下水浴加热45～60min，随后静置冷却至室温，抽滤并收集滤液，将滤液于95～100℃下旋转蒸发至原体积的1/10，制备得蜂蜡提取浓缩液，备用；（3）按重量份数计，分别称量15～20份丙醇、3～5份正硅酸乙酯、2～3份乙烯‑醋酸乙烯共聚物、20～25份无水乙醇和1～2份质量浓度98%硫酸置于烧杯中，搅拌混合并置于室温下陈化10～12h，制备得混合液；（4）按质量比1:3，将异丙醇铝与上述制备的混合液搅拌混合，再在800～1000r/min下搅拌混合6～8h，随后静置陈化20～24h，收集得前驱体凝胶液，将前驱体凝胶液置于150～200℃马弗炉中干燥25～30min，随后按10℃/min升温至800～1000℃，保温煅烧1～2h后，停止加热，静置冷却至室温，收集干燥颗粒并碾磨过120目筛，得硅掺杂氧化铝粉末；（5）按重量份数计，分别称量45～50份上述制备的硅掺杂氧化铝粉末、10～15份步骤（2）制备的蜂蜡提取浓缩液、1～2份油酸、2～3份石蜡油、1～2份聚丙烯酰胺和1～2份乙二醇置于分散罐中，在1500～2000r/min下打磨分散1～2h，随后过200目筛并收集滤液，在室温下静置陈化6～8h，即可制备得一种高稳定性擦亮剂。
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- 刘卫丽;王光灵;霍军朝;刘宇翔;宋志棠 - 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 2017-12-29 - 2019-07-09 - C09G1/02
- 本发明涉及化学机械抛光技术领域，特别是涉及一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种抛光液，按重量百分比计，包括如下组分：磨料10‑59%；表面活性剂0.005‑1%；去离子水40‑89%；pH值调节剂适量；所述抛光液的pH值范围为2‑10。本发明所提供的抛光液可应用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光工艺中，采用本发明提供的抛光液对氧化锆进行抛光，可以使得氧化锆陶瓷表面粗糙度小于0.2nm，抛光速率大于6μm/h，并可有效消除凹坑、凸起、划痕等表面缺陷。
- 一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途-201711475583.3
- 霍军朝;侯蕾;刘卫丽;宋志棠 - 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 2017-12-29 - 2019-07-09 - C09G1/02
- 本发明涉及精密抛光技术领域，特别是涉及一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种硅溶胶基磁流变金属抛光液，包括如下组分：硅溶胶、金属表面保护剂、分散剂、pH缓冲剂、磁性粒子保护剂、所述抛光液的pH值为9‑13。本发明针对如何使抛光液与磁性粒子相互配合，克服磁性粒子本身具有的易团聚、易板结和易被腐蚀等缺点，所提供的抛光液能够解决磁流变抛光过程中出现的磁流变液板结、寿命短，抛光后表面出现划伤、异色和难清洗等问题，具有优良的产业化前景。
- 一种化学机械抛光液-201711439525.5
- 姚颖;荆建芬;卞鹏程;潘依君;李恒;宋凯;杨俊雅;马健 - 安集微电子（上海）有限公司
- 2017-12-27 - 2019-07-05 - C09G1/02
- 本发明公开了一种化学机械抛光液及其在阻挡层平坦化中的应用，所述抛光液包含研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、一种非离子表面活性剂和氧化剂。本发明的化学机械抛光液可以满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比要求，对半导体器件表面的缺陷有很强的矫正能力，快速实现平坦化，提高工作效率，降低生产成本。
- 一种化学机械抛光液-201711439533.X
- 姚颖;卞鹏程;潘依君;荆建芬;李恒;张建;蔡鑫元;马健 - 安集微电子（上海）有限公司
- 2017-12-27 - 2019-07-05 - C09G1/02
- 本发明公开了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法，该抛光液包含研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、聚乙烯吡咯烷酮和氧化剂。本发明的化学机械抛光液可以满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比要求，对半导体器件表面的缺陷有很强的矫正能力，快速实现平坦化，提高工作效率，降低生产成本。
- 一种化学机械抛光液-201711439535.9
- 周文婷 - 安集微电子（上海）有限公司
- 2017-12-27 - 2019-07-05 - C09G1/02
- 本发明公开了一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包括二氧化硅研磨颗粒和增速剂；其中，所述增速剂选为含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物及其衍生物，以及含一个或多个氨基基团的嘧啶化合物及其衍生物。本发明所提供的酸性化学机械抛光液能够提高氮化硅去除速率的同时提高多晶硅的抛光速率。
- 一种化学机械抛光液-201711439627.7
- 潘依君;荆建芬;张建;姚颖;宋凯;蔡鑫元;杨俊雅;卞鹏程;李恒 - 安集微电子（上海）有限公司
- 2017-12-27 - 2019-07-05 - C09G1/02
- 本发明公开了一种化学机械抛光液，所述抛光液包括研磨颗粒，一种水溶性高分子聚合物和一种非离子表面活性剂，该非离子表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。本发明的抛光液具有优良的稳定性，并且可以在碱性条件下显著改变多晶硅的去除速率，从而实现调节多晶硅与二氧化硅的选择比，提高多晶硅的平坦化效率。
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