[发明专利]热酸产生剂以及光致抗蚀剂图案修整组合物和方法在审
| 申请号： | 201610916348.4 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN106631922A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | I·考尔;刘骢;K·罗威尔;G·波勒尔斯;李明琦 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C07C309/58 | 分类号： | C07C309/58;C07D213/61;C07D239/26;C07D239/74;C07C211/63;C07C323/20;C07C321/30;C07C25/18;C07D213/20;C07C309/60;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陈哲锋,胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供离子性热酸产生剂，其具有以下通式(I)其中Ar1表示任选经取代的碳环或杂环芳香族基团；W独立地表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1‑5烷氧基和甲酰基的基团；X为阳离子；Y独立地表示键联基团；Z独立地表示选自羟基、氟化醇、酯、任选经取代的烷基、C5或更高碳的任选经取代的单环、多环、稠合多环环脂肪族、或芳基的基团，其可任选地包含杂原子，其限制条件为Z的至少一次出现为羟基；a为0或更大的整数；b为1或更大的整数；其限制条件为a+b为至少1且不超过所述芳香族基团的可用芳香族碳原子的总数。此外提供光致抗蚀剂图案修整组合物以及使用所述修整组合物修整光致抗蚀剂图案的方法。所述热酸产生剂、组合物和方法尤其适用于制造半导体装置。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 以及 光致抗蚀剂 图案 修整 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种离子性热酸产生剂，其具有以下通式(I)：其中：Ar1表示任选经取代的碳环或杂环芳香族基团；W独立地表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1‑5烷氧基和甲酰基的基团；X为阳离子；Y独立地表示键联基团；Z独立地表示选自羟基、氟化醇、酯、任选经取代的烷基、C5或更高碳的任选经取代的单环、多环、稠合多环环脂肪族、或芳基的基团，其可任选地包含杂原子，其限制条件为Z的至少一次出现为羟基；a为0或更大的整数；b为1或更大的整数；其限制条件为a+b为至少1且不超过所述芳香族基团的可用芳香族碳原子的总数。
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