[发明专利]阵列基板、阵列基板的制造方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 201610676827.3 申请日: 2016-08-16
公开(公告)号: CN106206432A 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: 钱海蛟;操彬彬;杨成绍 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L21/82 分类号: H01L21/82;H01L27/12
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、阵列基板的制造方法及显示装置,属于显示技术领域。该方法包括:在衬底基板上形成用于连接两个金属层的过孔;采用掩膜板,在形成有该过孔的衬底基板上形成目标电极金属层,使形成该目标电极金属层后,该过孔内填充有光刻胶,从而减小了该衬底基板上过孔的深度,提高了该阵列基板表面的平整度,降低了在阵列基板表面形成配向膜的工序难度。
搜索关键词: 阵列 制造 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:在衬底基板上形成用于连接两个金属层的过孔;采用掩膜板,在形成有所述过孔的衬底基板上形成目标电极金属层,使形成所述目标电极金属层后,所述过孔内填充有光刻胶,所述掩膜板包括透明基板,所述透明基板上形成有至少三个透光率不同的透光区域,所述至少三个透光率不同的透光区域包括第一透光区域和第二透光区域;其中,所述第一透光区域在所述衬底基板上的正投影与所述衬底基板上的绑定区域以及非过孔区域内待形成目标电极金属层的区域重叠,所述第二透光区域在所述衬底基板上的正投影与所述衬底基板上的过孔所在区域重叠。
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