[发明专利]一种有机水稻田专用除草方法在审

专利信息
申请号: 201610646490.1 申请日: 2016-08-09
公开(公告)号: CN106212125A 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 许立;丁玉珍;楼珍彦;张卫星;闵捷 申请(专利权)人: 中国水稻研究所;义乌市农技推广服务中心
主分类号: A01G13/00 分类号: A01G13/00;A01G16/00
代理公司: 杭州天欣专利事务所(普通合伙)33209 代理人: 张狄峰
地址: 310006 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种有机水稻田专用除草方法。如何方便有效的控制有机水稻杂草,已成有机水稻生产之当务之急。本发明的步骤如下:(1)将黄豆制成粒度为1mm以下的黄豆粉;(2)每667m2有机水稻田使用150~180kg黄豆粉;黄豆粉施用后在有机水稻田的水中发生强还原反应,消耗水中大量的氧气,使土壤表面氧化还原电位急剧下降,阻碍杂草根系发育和种子的萌发,同时产生大量有机酸抑制杂草发根、发芽及损害杂草心叶,达到除草效果;(3)插秧之后3‑5天内及时施用,黄豆粉除草主要以低龄杂草为主,插秧后要及时施用;施用时有机水稻田应保有5厘米以上水层,并持续7天以上。本发明的工艺简单,能够方便、有效的控制有机水稻杂草。
搜索关键词: 一种 有机 水稻田 专用 除草 方法
【主权项】:
一种有机水稻田专用除草方法,其特征在于:所述方法的步骤如下:(1)将黄豆制成粒度为1mm以下的黄豆粉;(2)控制施用量,每667m2有机水稻田使用150~180kg黄豆粉;黄豆粉施用后在有机水稻田的水中发生强还原反应,消耗水中大量的氧气,使土壤表面氧化还原电位急剧下降,从而阻碍杂草根系发育和种子的萌发,同时产生大量有机酸抑制杂草发根、发芽及损害杂草心叶,从而达到除草效果;(3)插秧之后3‑5天内及时施用,黄豆粉除草主要以低龄杂草为主,因此插秧后要及时施用;施用时有机水稻田应保有5厘米以上水层,并持续7天以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国水稻研究所;义乌市农技推广服务中心,未经中国水稻研究所;义乌市农技推广服务中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610646490.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top