[发明专利]一种中频磁控溅射的工艺布气系统

摘要

本发明公开了一种中频磁控溅射的工艺布气系统，包括将氩气气板、氧气气板、孪生旋转硅靶，孪生靶包括一号硅靶和二号硅靶，氩气气板布置在孪生旋转硅靶的一边，氧气气板与氩气气板结合在一起，氩气气板的布气方式为两节二元式，其输出前端由一号质量流量计控制氩气总流量，其输出末端均匀分为四段出气，氧气气板均匀分为三段，分别由三个质量流量计独立控制，的氩气气板和的氧气气板出气末端设有气体分布器，的氧气气板装有气体过滤装置，氩气气板和氧气气板的出气末端一体连接固定，本设计有利于进气的均匀和气体充分混合，同时洋气的纯度也得到保证，镀制的膜层也会更致密，同时节约了设备成本。

主权项

一种中频磁控溅射的工艺布气系统，其特征在于，包括将氩气气板、氧气气板、孪生旋转硅靶，所述氩气气板布置在所述孪生旋转硅靶的同一侧，所述氧气气板与所述氩气气板结合在一起，所述氩气气板的布气方式为两节二元式，其输出前端由一号质量流量计控制氩气总流量，其输出末端均匀分为四段出气；所述氧气气板均匀划分成三段小板，分别由三个质量流量计独立控制。