[发明专利]一种用于基片对准的机器视觉系统及对准装置有效
| 申请号： | 201610608686.1 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN107664833B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 朱鸷;霍志军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/18 | 分类号： | G02B21/18;H01L21/66;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于基片对准的机器视觉系统及对准装置，该系统包括第一、第二照明光源，第一、第二反射镜，第一、第二物镜，第一、第二探测器，所述第一、第二照明光源之间，所述第一、第二反射镜之间，所述第一、第二物镜之间以及第一、第二探测器之间关于X轴对称，所述第一、第二照明光源发出的照明光线照射至对应的基片上进行反射，并经对应的物镜放大之后投射至对应的探测器上进行探测。本发明通过将所述第一、第二照明光源之间，所述第一、第二反射镜之间，所述第一、第二物镜之间以及第一、第二探测器之间关于X轴对称设置，大大减少了机器视觉系统在镜筒方向的占用体积，扩大机器视觉系统的检测范围，提高对准效率和精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 对准 机器 视觉 系统 装置 | ||
【主权项】：
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