[发明专利]掩模板及其制作方法有效
申请号: | 201610592396.2 | 申请日: | 2016-07-25 |
公开(公告)号: | CN106094420B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 徐湘伦;赵梦 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32 |
代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩模板及其制作方法。所述掩模板包括:边框,所述边框包括至少四框体分段,至少四所述框体分段首尾连接;掩模膜,所述掩模膜设置在所述边框的第一上表面上,所述掩模膜上设置有至少两透光孔,所述透光孔用于在显示面板的预定部件的制作过程中透过照射到所述掩模膜上的光线的至少一部分,以使从所述掩模膜透过的光线照射到待形成的所述预定部件所对应的材料层上。本发明能避免所述掩模膜上的所述透光孔的实际形状或尺寸与目标形状或尺寸具有较大的差异。 | ||
搜索关键词: | 模板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩模板,其特征在于,所述掩模板包括:/n边框,所述边框包括至少四框体分段,至少四所述框体分段首尾连接;/n掩模膜,所述掩模膜设置在所述边框的第一上表面上,所述掩模膜上设置有至少两透光孔,所述透光孔用于在显示面板的预定部件的制作过程中透过照射到所述掩模膜上的光线的至少一部分,以使从所述掩模膜透过的光线照射到待形成的所述预定部件所对应的材料层上;/n所述掩模膜是通过在至少四所述框体分段所围成的中间区域放置一支承板,再在所述支承板的第二上表面上以及所述第一上表面上涂布光刻胶材料,以形成光刻胶层,并对所述光刻胶层进行烘干,将烘干后的所述光刻胶层的两边缘部固定在所述边框的两相对的所述框体分段上,然后对烘干后的所述光刻胶层实施黄光制程和显影制程,以在烘干后的所述光刻胶层上形成所述透光孔,以及将所述支承板与所述边框相分离来形成的;/n其中,所述第二上表面与所述第一上表面共面,并且所述支承板在所述中间区域中与两相对的所述框体分段耦接;/n所述支承板为塑料板,所述塑料板的两相对的侧边与所述边框的两相对的所述框体分段的内侧面相抵接。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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