[发明专利]一种线性像素界定层结构及其制备方法

摘要

一种线性像素界定层结构的制备方法，包括如下步骤：A.在基板表面沉积疏液性的绝缘层；B.在绝缘层表面打印能够溶解绝缘层的溶剂，形成像素墙和像素限定区；C.进行氧离子轰击处理，将像素限定区内残留的绝缘层除掉，此时整体结构呈亲液状态；D.进行热处理，使得结构中的绝缘材料恢复疏液性，像素限定区保持亲液状态。本发明通过在绝缘层表面打印溶剂得到像素界定层，其像素限定区具有亲液性，有利于溶液的铺展，像素墙具有疏液性，可以防止溶液溢出，且由于该绝缘材料仅溶于其特定的溶剂，可以防止发光层溶液侵蚀像素界定层。具有制备工艺简单、材料利用率高的特点。

主权项

1.一种线性像素界定层结构的制备方法，其特征在于，通过如下步骤进行：A.在基板表面沉积疏液性的绝缘层；B.在绝缘层表面打印能够溶解绝缘层的溶剂，打印的溶剂使得溶解的绝缘层因为咖啡环效应堆积形成像素墙，由像素墙围成对应的像素限定区；C.对步骤B形成的结构进行氧离子轰击处理，将像素限定区内残留的绝缘层除掉，此时整体结构呈亲液状态；D.将步骤C形成的结构进行热处理，使得结构中的绝缘材料恢复疏液性，像素限定区保持亲液状态，得到线性像素界定层结构。