[发明专利]相移掩模半成品、相移掩模制造方法及显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610520850.3 申请日: 2016-07-05
公开(公告)号: CN106353963B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 谷口和丈;坪井诚治;牛田正男 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/26 分类号: G03F1/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张思宝
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种具有优异的图案截面形状及优异的CD均一性且用于形成有微细图案的显示装置用相移掩模的形成的相移掩模半成品。设置在透明基板上的由铬类材料组成的相移膜具有:相移层;反射率降低层;金属层,其设置在相移层与反射率降低层之间,在350nm~436nm的波长区域内具有比反射率降低层的消光系数更高的消光系数;相移膜对于曝光光的透过率和相位差满足作为相移膜所必需的规定的光学特性,并且相移膜的膜表面反射率在350nm~436nm的波长区域内为10%以下。
搜索关键词: 相移 半成品 制造 方法 显示装置
【主权项】:
一种相移掩膜半成品,其在透明基板上具备由铬类材料形成的相移膜,该相移掩膜半成品的特征在于:所述相移掩膜具有:相移层,其具有主要调整对曝光光的透过率和相位差的功能;反射率降低层,其配置在该相移层的上侧,具有使对从所述相移膜侧入射的光的反射率降低的功能;金属层,其配置在所述相移层与所述反射率降低层之间,在350nm~436nm的波长区域内具有比所述反射率降低层的消光系数更高的消光系数;通过所述相移层、所述金属层及所述反射率降低层的层叠构造,所述相移膜对曝光光的透过率和相位差具有规定的光学特性,并且所述相移膜对从所述相移膜侧入射的光的膜表面反射率在350nm~436nm的波长区域内为10%以下。
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