[发明专利]一种EMI屏蔽膜磁控卷绕镀膜机在审
| 申请号： | 201610451005.5 | 申请日： | 2016-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN106011773A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 潘振强;梁凯基 | 申请（专利权）人： | 广东振华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于镀膜设备技术领域，具体公开EMI屏蔽膜磁控卷绕镀膜机，包括真空室体、门体及靶室，所述真空室体内设有卷绕辊系，所述靶室内设有平面磁控靶系统，所述低温镀膜辊部分地置于靶室内，所述平面磁控靶系统包括若干靶工作区间，至少有一靶工作区间内设有若干对平面磁控靶，相邻的靶工作区间通过分隔板进行分隔，且各平面磁控靶围绕低温镀膜辊排布且与低温镀膜辊表面等距离设置。该镀膜机可以实现一次走膜，多靶同时工作，能极大地提高总体沉积速率，还可以满足一次镀制多种材料多层膜的需求，此外，还可以达到较低温度，有效排走热量，确保被镀膜的柔性基材不会受热变形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 emi 屏蔽 膜磁控 卷绕 镀膜 | ||
【主权项】：
一种EMI屏蔽膜磁控卷绕镀膜机，其特征在于：包括真空室体、门体及靶室，所述真空室体内设有卷绕辊系和离子源，所述靶室内设有平面磁控靶系统，所述卷绕辊系包括保护膜依次卷绕的保护膜收卷辊、放卷辊、若干导辊、低温镀膜辊及收卷辊，所述低温镀膜辊部分地置于靶室内，所述平面磁控靶系统包括若干靶工作区间，至少有一靶工作区间内设有若干对平面磁控靶，相邻的靶工作区间通过分隔板进行分隔，且各平面磁控靶围绕低温镀膜辊排布且与低温镀膜辊表面等距离设置，所述卷绕辊系上连接有卷绕控制系统，所述真空室体内还设有充气分布及控制系统和离子清洗系统，所述靶室上连通有真空抽气机组。
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