[发明专利]一种基板支撑结构及曝光机有效
| 申请号： | 201610379882.6 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN105824200B | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 刘浏;彭金宝;石鹏程 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基板支撑结构及曝光机，涉及机械设备技术领域，可减少现有技术中因托举件的水平位置固定而对产品良率造成影响的问题。该基板支撑结构包括多个托举件和第一驱动装置，多个所述托举件的顶端位于同一水平面内，所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动。本发明用于支撑基板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 支撑 结构 曝光 | ||
【主权项】：
一种基板支撑结构，其特征在于，包括多个托举件和第一驱动装置，多个所述托举件的顶端位于同一水平面内，所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动；还包括基台和第二驱动装置，所述基台的上表面开设有滑槽，多个所述托举件设置于所述滑槽内，所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件在所述滑槽内水平移动，所述第二驱动装置可驱动多个所述托举件或所述基台沿竖直方向移动，以使多个所述托举件与所述基台之间产生相对位移，随着多个所述托举件或所述基台沿竖直方向的移动，多个所述托举件的顶端可高于、平齐于或低于所述基台的上表面；还包括导轨以及配合设置于所述导轨内的多个滑块，多个所述托举件与多个所述滑块一一对应连接，所述第一驱动装置可驱动至少一个所述滑块沿所述导轨滑动，以带动相应的所述托举件在所述滑槽内水平移动。
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