[发明专利]三联吡啶基团修饰的石墨烯量子点的制备和应用有效
| 申请号： | 201610375550.0 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106047340B | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 王克志;亢思元 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C09K11/65 | 分类号： | C09K11/65;C09K11/02;G01N21/31;G01N21/78 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公布了一种三联吡啶基团修饰的石墨烯量子点的制备方法及其应用于分光光度法测定水样中二价铁离子浓度的方法。该方法具有高的灵敏度和选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 三联 吡啶 基团 修饰 石墨 量子 制备 应用 | ||
【主权项】：
一种三联吡啶基团共价修饰的石墨烯量子点，其特征在于：该修饰的石墨烯量子点具有如下结构
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京师范大学，未经北京师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610375550.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
