[发明专利]一种紫外光掩膜装置及其使用方法在审
| 申请号： | 201610325723.8 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN105759571A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 金宰弘;赵致贤;张富强 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种紫外光掩膜装置及其使用方法，在紫外光掩膜装置中采用至少一种发射单一中心波长的紫外发光二极管形成的光源阵列作为紫外发光光源。紫外发光二极管不含有臭氧和重金属水银等有害物质，不会对人体或环境产生有害影响。并且，紫外发光二极管可以发射单一中心波长，因此，可以针对掩膜工艺中所需的特定吸收波长设定紫外光发光二极管的发射中心波长，以实现预期的化学反应或工艺，这样可以降低光损失以及保证工艺的稳定性。此外，紫外发光二极管为冷光源，其发光过程中产生的热量较少，相对于水银灯和金属卤化物灯，可以移近紫外发光二极管和需要被光照射的部件之间的距离，从而提高光利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外光 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种紫外光掩膜装置，其特征在于，包括：设置有至少一种发射单一中心波长的紫外发光二极管的光源阵列；设置在所述光源阵列下方且与所述光源阵列具有设定距离的掩膜基板，所述掩膜基板用于将掩膜板固定于所述掩膜基板的下方；以及，设置在所述掩膜基板下方且与所述掩膜基板具有设定距离的载台，所述载台用于承载需要被所述掩膜板掩膜的基板。
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