[发明专利]霍尔推力器放电通道污染膜自清洗方法有效

专利信息
申请号: 201610251732.7 申请日: 2016-04-21
公开(公告)号: CN105834175B 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 丁永杰;魏立秋;李鸿;于达仁 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B08B9/027 分类号: B08B9/027;F03H1/00
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳昕
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 霍尔推力器放电通道污染膜自清洗方法,涉及一种霍尔推力器放电通道的清洗方法。为了解决现有的霍尔推力器自清洗方法适用性差的问题。包括:首先,在自清洗电源的作用下,阳极向气体分配器运动的电子与从气体分配器注入的推进剂的原子发生碰撞,产生电离,生成自清洗离子;然后,控制内线圈或外线圈单独励磁形成磁场,所述自清洗离子在由内线圈或外线圈形成的磁场作用下,轰击放电通道的外壁面或内壁面,清除附着在放电通道的外壁面或内壁面的污染膜,实现放电通道污染膜的自清洗。无需拆解推力器对放电通道9内壁面和外壁面上附着的污染膜进行清洗。
搜索关键词: 霍尔 推力 放电 通道 污染 清洗 方法
【主权项】:
1.一种霍尔推力器放电通道污染膜自清洗方法,所述方法基于霍尔推力器实现,方法包括:首先,在自清洗电源(8)的作用下,阳极(2)向气体分配器(1)运动的电子与从气体分配器(1)注入的推进剂(A)的原子发生碰撞,产生电离,生成自清洗离子;其特征在于,然后,控制内线圈(6)或外线圈(5)单独励磁形成磁场,所述自清洗离子在由内线圈(6)或外线圈(5)形成的磁场作用下,轰击放电通道(9)的外壁面或内壁面,清除附着在放电通道(9)的外壁面或内壁面的污染膜,实现放电通道(9)污染膜的自清洗;所述自清洗离子在由内线圈(6)单独励磁形成的磁场为发散磁场;在清洗放电通道(9)的外壁面污染膜时,还包括:调节内线圈(6)电流大小控制清洗时放电电流大小,清洗时放电电流应小于额定工况下的放电电流;所述自清洗离子在由外线圈(5)单独励磁形成的磁场为聚焦磁场;在清洗放电通道(9)的内壁面污染膜时,还包括:调节外线圈(5)电流大小控制清洗时放电电流大小,清洗时放电电流应小于额定工况下的放电电流。
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