[发明专利]一种基于微纳光纤与衬底之间光干涉的弱力测量系统在审
| 申请号： | 201610248473.2 | 申请日： | 2016-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN106052910A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 余健辉;陈哲;邱伟洽;黄汉凯;关贺元;卢惠辉 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | G01L1/24 | 分类号： | G01L1/24 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 郑永泉;邱奕才 |
| 地址： | 510632 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于微纳光纤与衬底之间光干涉的弱力测量系统，包括相机、显微镜、激光器、衬底、压电陶瓷、光源、U形架、微纳光纤、光电探测器和控制系统，所述压电陶瓷与控制系统连接；所述U形架用于封装微纳光纤；所述微纳光纤放置于光源的下方，一端与激光器连接，另一端与光电探测器连接，在激光器的作用下，微纳光纤上出现微弱光力，微弱光力会导致微纳光纤产生变形，进而产生横向位移，从而导致微纳光纤表面的彩色干涉条纹产生移动，通过相机以及显微镜可以观察到微纳光纤表面的彩色干涉条纹；所述光电探测器用于检测激光器发出的光功率；所述衬底放置于微纳光纤下方压电陶瓷上方，所述光源从上方垂直照射微纳光纤和衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光纤 衬底 之间 干涉 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种基于微纳光纤与衬底之间光干涉的弱力测量系统，其特征在于，包括相机、显微镜、激光器、衬底、压电陶瓷、光源、U形架、微纳光纤、光电探测器和控制系统，所述压电陶瓷与控制系统连接，在控制系统的控制下实现精细地移动；所述U形架用于封装微纳光纤；所述微纳光纤放置于光源的下方，一端与激光器连接，另一端与光电探测器连接，所述相机以及显微镜用于观察到微纳光纤表面的彩色干涉条纹；所述光电探测器用于检测激光器发出的光功率；所述衬底放置于微纳光纤下方压电陶瓷上方，所述光源从上方垂直照射微纳光纤和衬底。
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