[发明专利]在基体、涂层基体和包含涂层基体的半成品上产生结构化涂层的方法

摘要

本发明涉及一种在基体、涂层基体和包含涂层基体的半成品上产生结构化涂层的方法。具体地，本发明涉及一种用于在基体上产生结构化涂层的方法，其中所述方法包括如下步骤：提供具有待涂覆表面的基体；以及通过如下方式在基体的待涂覆表面上产生结构化涂层：借助于至少一种气相沉积涂层材料的热蒸发并使用附加结构化在基体的待涂覆表面上沉积至少一种气相沉积涂层材料即氧化铝、二氧化硅、四氮化三硅、或二氧化钛。本发明还涉及一种涂层基体和一种具有涂层基体的半成品。

主权项

一种方法，所述方法包括如下步骤：‑提供基体，‑在所述基体上沉积第一层，‑在所述第一层上沉积第二层，以及‑在所述第二层上沉积第三层，其中通过如下方式形成所述第一层、所述第二层和所述第三层中的每个：借助于蒸发涂层材料的热蒸发沉积所述蒸发涂层材料，其中所述蒸发涂层材料选自氧化铝、二氧化硅、四氮化三硅和二氧化钛，其中按等离子体增强热电子束蒸发来进行所述热蒸发，其中使用附加结构化来结构化所述第二层，其中所述第一层的蒸发涂层材料的折射率低于所述第二层的蒸发涂层材料的折射率，并且其中所述第三层的蒸发涂层材料的折射率低于所述第二层的蒸发涂层材料的折射率。