[发明专利]蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法在审
申请号: | 201610090986.5 | 申请日: | 2016-02-18 |
公开(公告)号: | CN105970227A | 公开(公告)日: | 2016-09-28 |
发明(设计)人: | 李智娟;李恩远;金童基;崔容硕 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C23F1/44 | 分类号: | C23F1/44;C23F1/26;C23F1/20;H01L21/3213 |
代理公司: | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人: | 钟锦舜 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法,所述蚀刻剂组合物包含磷酸、硝酸、乙酸、硫酸和水以便蚀刻包含铝合金和钼合金的多层。所述蚀刻剂组合物能够一步蚀刻被构造成顺序形成钼合金层、铝合金层、钼合金层和钼合金氧化物层的多层,并可防止光刻胶破裂和尖端形成。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 组合 利用 形成 金属 图案 方法 | ||
【主权项】:
用于蚀刻多层的蚀刻剂组合物,其包含:50至70wt%的磷酸、6至8wt%的硝酸、5至25wt%的乙酸、2至4wt%的硫酸、和余量的水,其中包含的硝酸和硫酸的含量比为1.5至2.5:1,并且所述多层被构造成顺序形成钼合金层、铝合金层、钼合金层和钼合金氧化物层。
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