[发明专利]蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法在审

专利信息
申请号: 201610090986.5 申请日: 2016-02-18
公开(公告)号: CN105970227A 公开(公告)日: 2016-09-28
发明(设计)人: 李智娟;李恩远;金童基;崔容硕 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: C23F1/44 分类号: C23F1/44;C23F1/26;C23F1/20;H01L21/3213
代理公司: 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 代理人: 钟锦舜
地址: 韩国全*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了蚀刻剂组合物和利用它形成金属图案的方法,所述蚀刻剂组合物包含磷酸、硝酸、乙酸、硫酸和水以便蚀刻包含铝合金和钼合金的多层。所述蚀刻剂组合物能够一步蚀刻被构造成顺序形成钼合金层、铝合金层、钼合金层和钼合金氧化物层的多层,并可防止光刻胶破裂和尖端形成。
搜索关键词: 蚀刻 组合 利用 形成 金属 图案 方法
【主权项】:
用于蚀刻多层的蚀刻剂组合物,其包含:50至70wt%的磷酸、6至8wt%的硝酸、5至25wt%的乙酸、2至4wt%的硫酸、和余量的水,其中包含的硝酸和硫酸的含量比为1.5至2.5:1,并且所述多层被构造成顺序形成钼合金层、铝合金层、钼合金层和钼合金氧化物层。
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