[发明专利]显示母板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610086258.7 | 申请日： | 2016-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN105527746B | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 杨同华;冯贺;万冀豫;张思凯;汪栋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种显示母板及其制作方法、显示装置，该显示母板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的黑矩阵层和彩色滤光层，所述衬底基板包括第一区域和第二区域，所述黑矩阵层在所述第一区域形成的子像素开口区的尺寸大于所述黑矩阵层在所述第二区域形成的子像素开口区域的尺寸，其中，所述第一区域上还设置有位于所述黑矩阵层上的挡墙层。本发明提供的显示母板，通过在子像素开口较大的第一区域上设置挡墙层，在制作彩色滤光层时，通过该挡墙层可以增加光阻涂覆时流动的阻力，进而可以减小MMG产品中不同尺寸产品因像素开口差异造成的相同颜色彩色滤光层的膜厚差异。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 母板 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种显示母板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的黑矩阵层和彩色滤光层，所述衬底基板包括第一区域和第二区域，所述黑矩阵层在所述第一区域形成的子像素开口区的尺寸大于所述黑矩阵层在所述第二区域形成的子像素开口区域的尺寸，其特征在于，所述第一区域上还设置有位于所述黑矩阵层上的挡墙层。
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