[发明专利]彩膜基板的制作方法

摘要

本发明提供一种彩膜基板的制作方法，先在彩色滤光膜层上形成一层负型光刻胶材料的光刻胶层，然后从衬底基板的下方对所述光刻胶层进行背面曝光，使光刻胶层靠近衬底基板侧的部分固化，用于形成平坦化层，接着利用光罩从衬底基板的上方对光刻胶层进行正面曝光，用于形成隔垫物，最后通过对经过两次曝光的光刻胶层进行显影，将光刻胶层上未固化的部分去除掉，进而同时得到平坦化层、及位于平坦化层上的隔垫物，与现有的彩膜基板的制作方法相比，工艺流程大大简化，从而减少了生产线上的设备投入，降低了产品的生产成本及制程中出现问题的风险，缩短了产品的生产周期。

主权项

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成黑色矩阵(20)；步骤2、在衬底基板(10)及黑色矩阵(20)上形成彩色滤光层(30)；步骤3、在所述彩色滤光层(30)及黑色矩阵(20)上涂布一层负型光刻胶，形成光刻胶层(50)；步骤4、从衬底基板(10)的下方对所述光刻胶层(50)进行背面曝光，曝光光线穿过衬底基板(10)和彩色滤光层(30)照射到所述光刻胶层(50)上，使所述光刻胶层(50)靠近衬底基板(10)的部分固化；步骤5、提供一光罩(80)，利用所述光罩(80)从衬底基板(10)的上方对所述光刻胶层(50)进行正面曝光，使所述光刻胶层(50)上对应所述光罩(80)上的图案的部分固化；步骤6、对所述光刻胶层(50)进行显影，将所述光刻胶层(50)上未固化的部分去除，得到平坦化层(51)、及位于所述平坦化层(51)上的隔垫物(52)；所述平坦化层(51)为所述光刻胶层(50)在步骤4中所固化的部分；所述隔垫物(52)为所述光刻胶层(50)在步骤5中对应所述光罩(80)上的图案所固化的部分；所述步骤1中形成的黑色矩阵(10)在所述衬底基板(10)上围出数个子像素区域；所述步骤2中形成的彩色滤光层(30)在数个子像素区域内的厚度不均一。