[发明专利]检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备

摘要

本发明公开了检查单元、检查方法和包括所述检查单元的基板处理设备。基板处理设备包括：处理单元、喷嘴单元以及检查单元，其检查所述处理液体是否从所述处理液体喷嘴被正常地排放。所述喷嘴还包括喷嘴驱动器，所述喷嘴驱动器将所述处理液体喷嘴从过程位置和检查位置移动，在所述过程位置处，所述基板由所述处理单元处理，在所述检查位置处，所述处理液体喷嘴由所述检查单元检查。所述检查单元包括：透明材料的板；摄影构件，其设置在所述板下方；光源构件，其将光照射到从所述处理液体喷嘴朝在所述检查位置处的所述板排放的所述处理液体的路径上；以及确定构件，其从由所述摄影构件拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。

主权项

1.一种基板处理设备，包括：处理单元，所述处理单元包括容器和设置在所述容器的内部中以支撑基板的支撑构件，所述处理单元被构造成处理所述基板；喷嘴单元，所述喷嘴单元具有处理液体喷嘴以用于将处理液体供应至设置在所述处理单元中的所述基板；以及检查单元，所述检查单元检查所述处理液体是否被从所述处理液体喷嘴正常地排放，其中，所述喷嘴单元还包括喷嘴驱动器，所述喷嘴驱动器将所述处理液体喷嘴从过程位置和检查位置移动，在所述过程位置处，所述基板由所述处理单元处理，在所述检查位置处，所述处理液体喷嘴由所述检查单元检查，并且其中，所述检查单元包括：透明材料的板；设置在所述板下方的摄影构件；光源构件，所述光源构件将光照射到从所述处理液体喷嘴朝所述检查位置处的所述板排放的所述处理液体的路径上；以及确定构件，所述确定构件从所述摄影构件拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。