[发明专利]SiC单晶的制造方法在审

专利信息
申请号: 201610039181.8 申请日: 2016-01-21
公开(公告)号: CN105821479A 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 山城浩嗣;阿部信平 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B9/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及SiC单晶的制造方法。提供一种能够使石墨坩埚内的Si-C溶液充分地对流而不使单晶制造装置大型化的SiC单晶的制造方法。SiC单晶的制造方法,其包括:使第一频率的高频电流流经配置于石墨坩埚周围的感应加热线圈,将原料Si加热至规定温度,使上述原料Si熔化,同时使C从上述石墨坩埚溶解从而形成Si-C溶液,在加热至上述规定温度之后,使频率从第一频率降至第二频率,对上述Si-C溶液进行保温保持。
搜索关键词: sic 制造 方法
【主权项】:
SiC单晶的制造方法,其为使晶种与C的Si溶液接触以使SiC单晶生长的基于溶液法的SiC单晶的制造方法,其包括:使第一频率的高频电流流经配置于石墨坩埚周围的感应加热线圈,将原料Si加热至规定温度,使所述原料Si熔化,同时使C从所述石墨坩埚溶解从而形成Si‑C溶液,在加热至所述规定温度之后,使频率从第一频率降至第二频率,对所述Si‑C溶液进行保温保持。
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