[发明专利]化学机械抛光(CMP)组合物在抛光包含钴和/或钴合金的基材中的用途有效
| 申请号： | 201580069662.7 | 申请日： | 2015-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN107109134B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | R·赖夏特;M·西伯特;兰永清;M·劳特尔;S·A·奥斯曼易卜拉欣;R·戈扎里安;H·O·格文茨;J·普罗尔斯;L·勒尼森 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光(CMP)组合物(Q)在化学机械抛光包含(i)钴和/或(ii)钴合金的基材(S)中的用途，其中该CMP组合物(Q)包含：(A)无机颗粒，(B)作为腐蚀抑制剂的具有至少一个羧酸官能团的经取代芳族化合物，(C)至少一种氨基酸，(D)至少一种氧化剂，(E)含水介质，其中该CMP组合物(Q)的pH为7至10。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 cmp 组合 抛光 包含 合金 基材 中的 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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