[发明专利]琢面EUV光学器件有效
| 申请号： | 201580069251.8 | 申请日： | 2015-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107003626B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | D·C·布拉特;A·I·厄肖夫;I·V·福门科夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种诸如聚光反射镜之类的反射式EUV光学器件配置作为间隔开以在相邻琢面之间形成相应间隙的琢面阵列。间隙用作气体流过琢面的一个的入口以使得平行于光学器件表面而引入流体。琢面可以形成具有偏移以使得可以最小化EUV光学器件的反射面积的损失。气体促进从琢面的表面移除靶标材料。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光学 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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