[发明专利]安装装置及其偏移量修正方法有效
申请号: | 201580018341.4 | 申请日: | 2015-02-09 |
公开(公告)号: | CN106165075B | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 高桥诚;佐藤亮 | 申请(专利权)人: | 株式会社新川 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京武藏村*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是关于一种安装装置及其偏移量修正方法。本发明包括:第1芯片位置计算步骤,通过上下两个视野照相机获取基准用芯片的上表面的图像与修正用芯片的下表面的图像而计算各芯片的各位置;第2芯片移动步骤,在使基准用芯片移动到如下位置后,将修正用芯片载置于吸附平台,所述位置是根据由各芯片的各位置计算出的各芯片间的偏离量而使各芯片间的相隔距离成为规定的偏移量的位置;第2芯片位置计算步骤,获取修正用芯片的上表面的图像而计算修正用芯片的第2位置;以及修正量计算步骤,根据基准用芯片的位置与修正用芯片的第2位置来计算规定的偏移量的修正量。由此,抑制安装位置的经时的位移而实现安装品质的提高。 | ||
搜索关键词: | 安装 装置 及其 偏移 修正 方法 | ||
【主权项】:
1.一种安装装置,包括:安装平台;基准用芯片及修正用芯片,载置于所述安装平台上;上下两个视野照相机,同时对上下的图像进行拍摄;以及控制部,使所述基准用芯片与所述修正用芯片的位置移动,并且对所述上下两个视野照相机的图像进行处理,其中所述控制部构成为能够实施各步骤,所述各步骤包括:第1图像获取步骤,使所述上下两个视野照相机进入到以规定的偏移量在XY方向上移动的所述修正用芯片与所述基准用芯片之间,通过所述上下两个视野照相机而同时获取所述基准用芯片上表面的图像与所述修正用芯片下表面的图像;第2图像获取步骤,将所述修正用芯片载置至下述位置,通过所述上下两个视野照相机而获取所载置的所述修正用芯片的上表面的图像,所述位置是所述基准用芯片的中心与所述修正用芯片的中心的XY方向的相隔距离成为所述规定的偏移量的所述安装平台上的XY方向的位置;以及修正量计算步骤,根据由所述第1图像获取步骤获取的图像、与由所述第2图像获取步骤获取的图像,来计算所述规定的偏移量的修正量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造