[实用新型]一种压力烧结高密度ITO旋转靶材有效
| 申请号： | 201520909787.3 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN205295447U | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 胡茂横 | 申请（专利权）人： | 深圳恒泰克科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种压力烧结高密度ITO旋转靶材，包括高密度ITO旋转靶材，所述高密度ITO旋转靶材整体呈圆筒状，高密度ITO旋转靶材内部设有内衬管，该内衬管的材料为钛，内衬管与高密度ITO旋转靶材之间设有邦定层，该邦定层的材料为铟；该压力烧结高密度ITO旋转靶材为高密度ITO旋转靶材，采用压力烧结的方式制造而成，密度高达99%以上，性能优良，靶材密度比较均匀，值得大力推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 压力 烧结 高密度 ito 旋转 | ||
【主权项】：
一种压力烧结高密度ITO旋转靶材，包括高密度ITO旋转靶材（1），其特征在于，所述高密度ITO旋转靶材（1）整体呈圆筒形，高密度ITO旋转靶材（1）内部设有内衬管（2），该内衬管（2）与高密度ITO旋转靶材（1）之间设有邦定层（3）。
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