[实用新型]一种双台面激光直写曝光机有效
| 申请号： | 201520764904.1 | 申请日： | 2015-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN205003441U | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 陆敏婷 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所 34115 | 代理人： | 张祥骞;奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种双台面激光直写曝光机，与现有技术相比解决了激光直写曝光机工作效率低下的缺陷。本实用新型的支撑底座上安装有双滑块运动组件和精密运动步进轴，双滑块运动组件和精密运动步进轴均位于台面支撑调整组件A和台面支撑调整组件B的上方，光路系统安装在精密运动步进轴的运动滑块上且光路系统的曝光方向朝向台面支撑调整组件A或台面支撑调整组件B，双滑块运动组件的左滑块上安装有左CCD组件，双滑块运动组件的右滑块上安装有右CCD组件，左CCD组件和右CCD组件的光源方向朝向台面支撑调整组件A或台面支撑调整组件B。本实用新型大大节省了整个曝光环节中串联等待的时间，大大提高了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 台面 激光 曝光 | ||
【主权项】：
一种双台面激光直写曝光机，包括一体化底座（13）、光路系统（6）、左CCD组件（10）和右CCD组件（9），一体化底座（13）上安装有支撑底座（12），支撑底座（12）上安装有台面支撑调整组件A（30），台面支撑调整组件A（30）包括扫描轴（2），扫描轴（2）的上方安装有聚集Z轴（3），聚集Z轴（3）上方安装有真空吸盘（4），其特征在于：还包括台面支撑调整组件B（31），台面支撑调整组件B（31）与台面支撑调整组件A（30）两者结构相同，台面支撑调整组件B（31）安装在支撑底座（12）上且与台面支撑调整组件A（30）横向对应；支撑底座（12）上安装有双滑块运动组件（8）和精密运动步进轴（7），双滑块运动组件（8）和精密运动步进轴（7）均位于台面支撑调整组件A（30）和台面支撑调整组件B（31）的上方，光路系统（6）安装在精密运动步进轴（7）的运动滑块上且光路系统（6）的曝光方向朝向台面支撑调整组件A（30）或台面支撑调整组件B（31），双滑块运动组件（8）的左滑块（17）上安装有左CCD组件（10），双滑块运动组件（8）的右滑块（20）上安装有右CCD组件（9），左CCD组件（10）和右CCD组件（9）的光源方向朝向台面支撑调整组件A（30）或台面支撑调整组件B（31）。
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