[实用新型]铜氧化膜厚度测量仪有效

专利信息
申请号: 201520680862.3 申请日: 2015-09-02
公开(公告)号: CN204964438U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 喻晖;冯永春;曹钟樑 申请(专利权)人: 武汉康捷科技发展有限公司
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26;G01B21/08
代理公司: 北京市金栋律师事务所 11425 代理人: 吴小旭
地址: 430090 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供铜氧化膜厚度测量仪,包括信号控制模块,信号控制模块包括恒定电流输出模块、电压采样模块、处理模块和通信模块,恒定电流输出模块、电压采样模块、通信模块均连接处理模块,恒定电流输出模块连接电解槽的阳极接口、阴极接口,阴极接口、阳极接口均连接电压采样模块,在阳极接口上设置电位传感器。本实用新型通过信号控制模块实现供应恒定直流电、测量试样电压以及放大、转换信息的功能,无需外设其他设备,整体结构简单;通过测量电位变化,用于绘制电压—时间曲线,根据曲线的拐点得到氧化亚铜及氧化铜的反应时间,无需在电解槽中设置参考电极。
搜索关键词: 氧化 厚度 测量仪
【主权项】:
铜氧化膜厚度测量仪,包括电解槽,所述电解槽上方开设阳极接口和阴极接口,所述电解槽内设置电解液,其特征在于:还包括信号控制模块,所述信号控制模块包括恒定电流输出模块、电压采样模块、处理模块和通信模块,所述恒定电流输出模块、电压采样模块、通信模块均连接至所述处理模块,所述恒定电流输出模块连接所述阳极接口、所述阴极接口,所述阴极接口、所述阳极接口均连接至所述电压采样模块,所述通信模块用于连接计算机处理系统。
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