[发明专利]半导体图案的测量装置、使用其的测量系统和测量方法有效
| 申请号： | 201511001427.4 | 申请日： | 2015-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106442571B | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 姜允植;马圣民;韩准成 | 申请（专利权）人： | 爱思开海力士有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 俞波;许伟群 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种测量方法包括：通过将第一分光照射到物体来获取从物体反射的图案反射光，第一分光通过反射偏振光来产生；通过将第二分光照射到反射器来获取从反射器反射的相位受控的镜面反射光，第二分光通过传输偏振光来产生；以及基于图案反射光与镜面反射光之间的干涉信号来获取物体的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 图案 测量 装置 使用 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
一种测量方法，包括：通过将第一分光照射到物体来获取从物体反射的图案反射光，第一分光通过反射偏振光来产生；通过将第二分光照射到反射器来获取从反射器反射的相位受控的镜面反射光，第二分光通过传输所述偏振光来产生；以及基于图案反射光与镜面反射光之间的干涉信号来获取物体的图案。
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