[发明专利]存储器结构有效

专利信息
申请号: 201510634732.0 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN106560927B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 陈士弘 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11556 分类号: H01L27/11556;H01L27/11582
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种存储器结构。此种存储器结构包括一第一芯片。第一芯片具有一阵列区及一周边区。第一芯片包括一第一叠层及多个贯穿结构。第一叠层设置在周边区中。第一叠层包括交替叠层的多个导电层及多个绝缘层。贯穿结构分别包括一开口、一介电层及一通道材料。开口穿过第一叠层。介电层设置在开口的一侧壁上。通道材料设置在开口中,并覆盖介电层。
搜索关键词: 存储器 结构
【主权项】:
1.一种存储器结构,包括:一第一芯片,具有一阵列区及一周边区,该第一芯片包括:一第一叠层,设置在该周边区中,该第一叠层包括交替叠层的多个导电层及多个绝缘层;以及多个贯穿结构,分别包括:一开口,穿过该第一叠层;一介电层,设置在该开口的一侧壁上;及一通道材料,设置在该开口中,并覆盖该介电层;以及一字线译码器,设置在该周边区中,该字线译码器包括该第一叠层及这些贯穿结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510634732.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top