[发明专利]一种彩膜阵列基板及其制造方法、显示装置有效
申请号: | 201510622182.0 | 申请日: | 2015-09-25 |
公开(公告)号: | CN105137645B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 付如海;林永伦;张君恺;邱杰;叶成亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩膜阵列基板及其制造方法、显示装置,其通过在彩膜阵列基板的基板上形成多个阵列式排布的像素单元,且每个像素单元包括透光区域及位于透光区域外围的非透光区域,像素单元进一步包括彩色滤光图案和黑矩阵图案,其中彩色滤光图案覆盖透光区域,黑矩阵图案在下方不设置彩色滤光图案的情况下直接覆盖非透光区域。与现有技术相比,本发明能够在像素单元的非透光区域形成较厚的黑矩阵图案,以避免漏光问题,进而改善后续显示品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜阵列基板,其特征在于,所述彩膜阵列基板包括基板、形成在所述基板上的多个阵列式排布的像素单元,所述像素单元包括透光区域及位于所述透光区域外围的非透光区域,所述像素单元进一步包括彩色滤光图案和黑矩阵图案,其中所述彩色滤光图案覆盖所述透光区域,所述黑矩阵图案在下方不设置所述彩色滤光图案的情况下直接覆盖所述非透光区域;所述像素单元进一步包括薄膜晶体管、扫描线图案、数据线图案、第一钝化层和像素电极图案,所述薄膜晶体管的栅极图案和源极图案分别与所述扫描线图案和所述数据线图案连接,所述像素电极图案位于所述第一钝化层上部,所述第一钝化层上设有第一通孔,所述薄膜晶体管的漏极图案通过所述第一通孔与所述像素电极图案连接,所述黑矩阵图案与所述薄膜晶体管、所述扫描线图案和所述数据线图案对应设置,且直接接触所述第一钝化层;所述黑矩阵图案在所述第一通孔的位置也设有第二通孔,用于所述薄膜晶体管的漏极图案通过所述第一通孔、所述第二通孔与所述像素电极图案连接。
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