[发明专利]石墨烯图案及其形成方法、显示基板制备方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201510511211.6 申请日: 2015-08-19
公开(公告)号: CN105070658B 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 吕志军;张方振;孙双;张锋;崔承镇 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/3213 分类号: H01L21/3213;H01L21/77;G02F1/136
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种石墨烯图案及其形成方法、显示基板制备方法及显示装置,涉及显示技术领域,不受限于激光设备的限定,图案线宽更为精细;且处理时间短,生产效率高、适用于大批量生产。该方法包括在基底层上形成图案层;图案层的图案与待形成的石墨烯图案相一致;形成位于图案层上方且覆盖基底层的石墨烯膜层;将包括有基底层、图案层以及石墨烯膜层的层级结构与目标衬底层相贴合,形成复合层;将复合层浸泡在刻蚀液中以去除图案层,形成与基底层以及其他部分相分离的贴合在目标衬底层表面的石墨烯图案。用于石墨烯图案及包括该石墨烯图案的显示基板、显示装置的制备。
搜索关键词: 石墨 图案 及其 形成 方法 显示 制备 显示装置
【主权项】:
一种石墨烯图案的形成方法,其特征在于,所述方法包括:在基底层上形成图案层;其中,所述图案层的图案与待形成的石墨烯图案相一致;采用化学成膜法,形成位于所述图案层上方且覆盖所述基底层的石墨烯膜层;其中,所述石墨烯膜层的厚度小于所述图案层的厚度;将包括有所述基底层、所述图案层以及所述石墨烯膜层的层级结构与目标衬底层相贴合,形成复合层;其中,所述目标衬底层与所述石墨烯膜层覆盖所述图案层的第一部分相接触,所述目标衬底层与所述石墨烯膜层的其他部分不接触;将所述复合层浸泡在刻蚀液中以去除所述图案层,形成与所述基底层以及所述其他部分相分离的贴合在所述目标衬底层表面的石墨烯图案。
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