[发明专利]图案化方法

摘要

本发明公开一种图案化方法。提供材料层。在材料层上形成依序包括第一掩模层与第一光致抗蚀剂层的多个掩模结构。在材料层上共形地形成覆盖掩模结构的第二掩模层。在掩模结构间形成第一牺牲层。移除部分第二掩模层而暴露第一光致抗蚀剂层，以于掩模结构间形成第一U型掩模层。移除第一光致抗蚀剂层与第一牺牲层。在材料层上共形地形成具有第一表面与低于第一表面的第二表面的第三掩模层。在第三掩模层的第二表面上形成第二牺牲层。移除部分第三掩模层而暴露第一U型掩模层的突出部，以形成第二U型掩模层。以第二U型掩模层的突出部为掩模，对材料层图案化。

主权项

1.一种图案化方法，包括：提供材料层；在所述材料层上形成多个掩模结构，所述掩模结构由所述材料层起依序包括第一掩模层与第一光致抗蚀剂层；在所述材料层上共形地形成覆盖所述掩模结构的第二掩模层；至少于所述掩模结构之间的所述第二掩模层上形成第一牺牲层；移除部分所述第二掩模层而暴露出所述第一光致抗蚀剂层，以于相邻的所述掩模结构之间形成第一U型掩模层；移除所述第一光致抗蚀剂层与所述第一牺牲层；在所述第一掩模层与所述第一U型掩模层上共形地形成第三掩模层，其中所述第三掩模层具有第一表面与第二表面，所述第一表面高于所述第二表面；至少于所述第三掩模层的所述第二表面上形成第二牺牲层；移除部分所述第三掩模层而暴露出所述第一U型掩模层的突出部，以于所述第一U型掩模层的突出部之间形成第二U型掩模层；以及以所述第二U型掩模层的突出部为掩模，对所述材料层进行图案化，其中对所述材料层进行图案化方法包括：以所述第二U型掩模层的突出部为掩模，移除所述第一U型掩模层的突出部与所述第二牺牲层；以及移除位于所述第二U型掩模层的突出部之间的所述第二U型掩模层、未被所述第二U型掩模层的突出部覆盖的所述第一掩模层、所述第一U型掩模层与所述材料层。