[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示装置有效
| 申请号： | 201510246822.2 | 申请日： | 2015-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN104915054B | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 张文林;李禹奉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阵列基板及其制作方法，以及一种显示装置，包括：有源层；与有源层同层设置的触控信号的多个输出电极和多个接收电极；多个接收电极包括多行沿第一方向间隔设置的接收电极；多个输出电极包括多个沿第二方向延伸的输出电极。根据本发明的技术方案，将输出电极和接收电极与有源层同层设置，无需额外一次工艺制作输出电极和接收电极，可以减少基板的制作工艺，简化制作流程。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：有源层；与所述有源层同层设置的触控信号的多个输出电极和多个接收电极；所述多个接收电极包括多行沿第一方向间隔设置的接收电极；所述多个输出电极包括多个沿第二方向延伸的输出电极；所述有源层的材料为金属氧化物半导体；所述输出电极和接收电极由对所述金属氧化物半导体进行等离子体处理形成，同层设置的所述有源层、多个所述输出电极和多个所述接收电极由对同一金属氧化物半导体层处理形成。
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