[发明专利]一种GaN外延废片回收的方法有效

专利信息
申请号: 201510187404.0 申请日: 2015-04-20
公开(公告)号: CN104779326B 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 李培咸;孟锡俊;王旭明;陈勘;刘大为;张翼;郭迟;黄兆斌;廉大桢;李建婷;李玮霖;张阳 申请(专利权)人: 西安中为光电科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京鼎宏元正知识产权代理事务所(普通合伙)11458 代理人: 李波,武媛
地址: 710000 陕西省西安*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种GaN外延废片回收的方法,包括下述步骤步骤二把所述步骤一中处理的GaN外延废片浸泡到酸溶液或碱溶液中,然后加热酸溶液或碱溶液用来腐蚀GaN外延废片表面;步骤三把所述步骤二中腐蚀完后的GaN外延废片取出,然后用清洗液清洗GaN外延废片表面。本发明所述GaN外延废片回收的方法不会抛弃大量的GaN外延废片,不仅节省了大量的生产成本,而且不会污染环境,做到了节能环保的作用。
搜索关键词: 一种 gan 外延 回收 方法
【主权项】:
一种GaN外延废片回收的方法,包括:第一步骤(S10):将GaN外延废片浸泡到腐蚀溶液中以腐蚀所述GaN外延废片表面;第二步骤(S20):利用清洗液来清洗所述第一步骤中经过腐蚀的GaN外延废片;在所述第一步骤之前,通过研磨处理和/或高温处理对所述GaN外延废片表面进行粗化处理;所述研磨处理为通过砂纸或砂轮对GaN外延废片表面进行打磨;所述高温处理为把GaN外延废片在烤盘炉加热,加热温度大于1000℃,加热时间为0.5‑10小时;其中,在所述第二步骤(S20)中,利用清洗液来清洗所述第一步骤中经过腐蚀的GaN外延废片包括:步骤(S100):使用硫酸和双氧水混合溶液对GaN外延废片表面进行清洗并吹干;步骤(S200):使用稀盐酸对完成所述步骤S100的GaN外延废片表面进行清洗并吹干;步骤(S300):使用纯水对完成所述步骤S200的GaN外延废片表面进行清洗并吹干。
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