[发明专利]具有图案的基板的制造方法以及氢氟酸蚀刻用树脂组合物有效

专利信息
申请号: 201480018709.2 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN105103050B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 佐藤哲夫 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G03F7/035 分类号: G03F7/035;C08F290/06;C08G18/69;C08G63/40;G03F7/027;G03F7/032;G03F7/40
代理公司: 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 刘新宇;李茂家<国际申请>=PCT/JP
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种具有利用蚀刻形成的图案的基板的制造方法,其特征在于,其包括:将包含作为(A)成分的使选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应而得到的树脂的组合物涂布到基板上形成抗蚀膜的工序、和对形成该抗蚀膜的基板进行蚀刻加工而图案化的工序。
搜索关键词: 具有 图案 制造 方法 以及 氢氟酸 蚀刻 树脂 组合
【主权项】:
1.一种具有利用蚀刻形成的图案的基板的制造方法,其特征在于,其包括:将包含作为(A)成分的树脂的组合物涂布到基板上形成抗蚀膜的工序;和、对形成有该抗蚀膜的基板使用氢氟酸进行蚀刻加工而图案化的工序,/n所述树脂是由选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇中的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应得到的。/n
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