[实用新型]可挠式真空对位贴合设备有效
申请号: | 201420742409.6 | 申请日: | 2014-12-01 |
公开(公告)号: | CN204391053U | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 杨诏中;穆传康 | 申请(专利权)人: | 宸圆科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾桃园县大园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型揭示一种可挠式真空对位贴合设备,包括下贴合平台及上贴合平台。下贴合平台放置基板及承接弹性密封组件于基板周围。上贴合平台与基板及弹性密封组件相对设置。上贴合平台包括挠性基板承载台固定于上贴合平台,用以承载挠性基板,挠性基板与基板形成预定间隙,上贴合平台、弹性密封组件及下贴合平台形成真空腔体并容纳基板及挠性基板,藉由抽出真空腔体之内的气体,使得挠性基板承载台向基板挠性变形并由中心区域贴合于基板且向外扩散。本实用新型解决挠性基板与基板贴合过程产生气泡及挠性基板受到拉伸导致对位偏移的问题。 | ||
搜索关键词: | 可挠式 真空 对位 贴合 设备 | ||
【主权项】:
一种可挠式真空对位贴合设备,其特征在于,所述可挠式真空对位贴合设备包括:一下贴合平台,设有一基板承载台以及所述基板承载台周围的一环形凹槽,所述基板承载台用以容纳一基板,所述环形凹槽用以承接一弹性密封组件;以及一上贴合平台,与所述下贴合平台相对设置,包括用以承载一挠性基板的一挠性基板承载台,所述挠性基板与所述基板形成一预定间隙,所述下贴合平台的所述弹性密封组件接触所述上贴合平台,使所述下贴合平台、所述弹性密封组件以及所述上贴合平台形成一真空腔体以容纳所述基板以及所述挠性基板,其中由所述真空腔体抽出至少一部份气体,以藉由所述基板承载台向所述基板挠性变形所述预定间隙的距离,以使所述挠性基板贴合于所述基板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造