[实用新型]一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座有效
| 申请号： | 201420262140.1 | 申请日： | 2014-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN204123257U | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 刘南柳;陈蛟;张国义 | 申请（专利权）人： | 东莞市中镓半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/27 | 分类号： | B24B37/27 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523518 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座。所述一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座，利用各孔都可独立调控压力的多孔气垫式充气底座，通过调节充气底座的上表面轮廓，使其与待研磨样品的下表面各处均形成紧密接触，或者采用热固性材料支撑底座填充，以大幅减小厚度分布不匀、表面不平整的晶圆样品在研磨抛光时的受力不均匀性，从而避免在研磨抛光中局域受力过大导致样品碎裂，提高研磨抛光产品良率，提高生产效率、节省成本。本实用新型可应用于各种规格的晶圆样品的研磨抛光，其操作简单，适用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶圆片 研磨 抛光 支撑 底座 | ||
【主权项】：
一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座，其特征在于，具有各孔都可独立调控压力的多孔气垫式充气底座，通过调节弹性膜的表面形貌，使其与待研磨样品的下表面的各处均形成紧密接触；所述多孔气垫式充气底座由充气气源(27)、多孔气垫柱(22)以及连接在气垫柱(22)上的弹性膜(21)组成；其中，充气气源(27)通过主通气管(25)与气垫柱(22)连通，充气气源(27)与主通气管(25)的之间设置总气阀(26)，气垫柱(22)上设置分气阀(24)、压力表(23)和放气阀(28)。
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