[实用新型]一种高质量氧化铝陶瓷的刻蚀加工装置有效
| 申请号： | 201420139228.4 | 申请日： | 2014-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN203791838U | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | 段军;孔令辉;张菲;曾晓雁 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种氧化铝陶瓷的刻蚀加工装置，包括紫外激光器、扫描振镜，二维加工平台，以及容器；容器位于所述二维加工平台上，该容器用于盛水和待刻蚀加工的氧化铝陶瓷，所述水的表面到氧化铝陶瓷表面距离为2mm-12mm；所述扫描振镜位于所述紫外激光器的出光光路上，该扫描振镜用于将紫外激光器发射的激光束聚焦在所述氧化铝陶瓷表面。本实用新型巧妙的引入“水”的因素，在水下对氧化铝陶瓷进行激光刻蚀的冷却和排渣效应，有效的避免了空气中直接刻蚀出现的发黑变质现象，并且也增加了刻蚀深度，改善了刻蚀质量并提高了激光刻蚀加工效率，利用本实用新型可以在氧化铝陶瓷表面激光刻蚀制作出各种高尺寸精度的三维复杂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 质量 氧化铝陶瓷 刻蚀 加工 装置 | ||
【主权项】：
一种氧化铝陶瓷的刻蚀加工装置，其特征在于，该装置包括紫外激光器、扫描振镜，二维加工平台，以及容器；所述容器位于所述二维加工平台上，该容器用于盛水和待刻蚀加工的氧化铝陶瓷，所述水的表面到氧化铝陶瓷表面距离为2mm‑12mm；所述扫描振镜位于所述紫外激光器的出光光路上，该扫描振镜用于将紫外激光器发射的激光束聚焦在所述氧化铝陶瓷表面。
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