[发明专利]像素结构及其制备方法、阵列基板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201410660014.6 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN104377230B 公开(公告)日: 2017-09-19
发明(设计)人: 刘利宾 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种像素结构及其制备方法、阵列基板、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的阵列基板的出光率低的问题。该像素结构,具有像素电路,所述像素结构包括显示区和透过区,所述像素电路中的有机电致发光器件位于显示区,所述像素电路中的至少一个存储电容位于透过区,所述存储电容第一极板和第二极板的材料均为透明导电材料,且两者至少通过介电层电学绝缘隔开。
搜索关键词: 像素 结构 及其 制备 方法 阵列 显示装置
【主权项】:
一种像素结构,具有像素电路,其特征在于,所述像素结构包括显示区和透过区,所述像素电路中的有机电致发光器件位于显示区,所述像素电路中的至少一个存储电容位于透过区,所述存储电容第一极板和第二极板的材料均为透明导电材料,且两者至少通过介电层电学绝缘隔开;位于所述有机电致发光器件的阴极所在层下方的介电层在所述显示区和所述透过区存在段差;所述第二极板与所述阴极同层断开设置,且材料相同。
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