[发明专利]一种红色LED芯片制程工艺中的电极制作方法在审

专利信息
申请号: 201410644761.0 申请日: 2014-11-14
公开(公告)号: CN104409597A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 沈智广 申请(专利权)人: 无锡科思电子科技有限公司
主分类号: H01L33/36 分类号: H01L33/36;H01L33/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 许方
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种红色LED芯片制程工艺中的电极制作方法,将蒸镀完P面、N面的LED芯片置于黄光室内,在P面涂保护胶;在保护胶层上设置掩膜板,然后进行光照,形成保护层;进行显影定影,对P面的金属层进行蚀刻,形成P面的接触电极,并进行去胶清洗;在P面的接触电极上依次蒸镀钛层、铝层,形成P面的焊线电极;对P面的焊线电极涂保护胶;并进行显影定影后,将涂保护胶后的P面的焊线电极进行蚀刻,并进行去胶清洗;该方法提高了蚀刻的精度,保证了P面电极的质量。
搜索关键词: 一种 红色 led 芯片 工艺 中的 电极 制作方法
【主权项】:
一种红色LED芯片制程工艺中的电极制作方法,包括如下步骤:步骤1、将蒸镀完P面、N面的LED芯片置于黄光室内,在P面涂保护胶;步骤2、在保护胶层上设置掩膜板,然后进行光照,形成保护层;步骤3、对P面的金属层进行蚀刻,形成P面的接触电极,并进行去胶清洗;步骤4、在P面的接触电极上依次蒸镀钛层、铝层,形成P面的焊线电极;步骤5、对P面的焊线电极涂保护胶;步骤6、将涂保护胶后的P面的焊线电极进行蚀刻,并进行去胶清洗;其特征在于:所述步骤2与步骤3之间以及步骤5与步骤6之间均包括显影、定影过程。
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