[发明专利]一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法在审

专利信息
申请号: 201410627707.5 申请日: 2014-11-10
公开(公告)号: CN104313665A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 邵忠财;孔冰;张弘 申请(专利权)人: 沈阳理工大学
主分类号: C25D11/30 分类号: C25D11/30;C25D15/00
代理公司: 沈阳火炬专利事务所(普通合伙) 21228 代理人: 李福义
地址: 110159 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种镁合金表面耐腐蚀及具有功能性防护层的制备方法,具体讲是涉及增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法,其属于属于表面处理技术领域;首先将镁合金基体放置在底部设有磁铁的电解槽中,电解槽内的电解液中加有磁性粉体,使其均匀覆盖磁性粉体,再采用微弧氧化的方法在镁合金表面复合的陶瓷膜,可在镁合金表面形成均匀覆盖的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜,该复合膜层可以减少微弧氧化膜层表面的微孔和裂纹,提高镁合金的耐蚀性;使微弧氧化膜具有磁性功能。通过电解槽外侧底部的磁铁,使得磁性粉体在磁力的作用下,通过微弧氧化熔融放电通道进入氧化膜的内部,增加粉体在微弧氧化膜的复合量,使其更多的体现磁性粉体的电磁波吸收、屏蔽功能,增加其应用领域。
搜索关键词: 一种 增加 磁性 镁合金 氧化 含量 方法
【主权项】:
一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法,其特征在于:其包括如下步骤:(1)镁合金经除油后,表面用去离子水清洗干净并吹干;(2)将清洗后的镁合金放入外侧底部具有磁铁的电解槽中,电解槽内的电解液内加有磁性粉体搅拌电解液,使磁性粉体均匀的覆盖在镁合金基体的表面;磁性粉体粉体的加入量在3~5g/L;(3)将均匀覆盖磁性粉体的镁合金进行微弧氧化处理,处理时间为15 30min,微弧氧化电解液为:20g/L硅酸钠,10g/L氟化钠;(4)清洗:将微弧氧化处理后的镁合金用去离子水清洗;(5)干燥:将清洗的镁合金吹干,得到磁性粉体含量高的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳理工大学,未经沈阳理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410627707.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top