[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201410433472.6 申请日: 2014-08-28
公开(公告)号: CN104216190B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 姜文博;包智颖;肖文俊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1368 分类号: G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,属于液晶显示领域。其中,该阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板上形成有栅线、数据线、薄膜晶体管、公共电极、像素电极和钝化层,所述栅线和数据线交叉限定出多个像素区域,所述薄膜晶体管包括与所述栅线连接的栅电极、与所述数据线连接的源电极和与所述像素电极连接的漏电极,所述栅电极上方设置有导电图形,所述栅电极在垂直于衬底基板的方向上的投影落入所述导电图形内。本发明的技术方案能够消除显示装置的暗区现象,提高显示装置的显示质量。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板上形成有栅线、数据线、薄膜晶体管、公共电极、像素电极和钝化层,所述栅线和数据线交叉限定出多个像素区域,所述薄膜晶体管包括与所述栅线连接的栅电极、与所述数据线连接的源电极和与所述像素电极连接的漏电极,其特征在于,所述栅电极上方设置有导电图形,所述栅电极在垂直于衬底基板的方向上的投影落入所述导电图形内;所述公共电极的图形包括有多个镂空区域,公共电极的图形中的镂空区域延伸至像素区域下端的黑矩阵遮挡区,所述镂空区域的长度大于一个像素区域的长度。
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