[发明专利]曝光方法及曝光机有效
| 申请号： | 201410400540.9 | 申请日： | 2014-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN104166315B | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 宋江江 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人： | 朱绘,张文娟 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光方法及曝光机，属于显示技术领域，能够达到更高的曝光精度。该曝光方法，包括将掩膜板放置于待曝光的基板上方的第一位置；对所述基板上的光刻胶的第一区域进行曝光；将所述掩膜板移动至所述基板上方的第二位置；对所述基板上的光刻胶的第二区域进行曝光，使所述光刻胶的第一区域与第二区域的重叠部分被曝光两次。本发明可用于液晶显示器的制造过程。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，包括：将掩膜板放置于待曝光的基板上方的第一位置；对所述基板上的光刻胶的第一区域进行曝光；将所述掩膜板斜向平移至所述基板上方的第二位置；对所述基板上的光刻胶的第二区域进行曝光，使所述光刻胶的第一区域与第二区域的重叠部分被曝光两次；保留所述光刻胶被曝光两次的部分，去除所述光刻胶被曝光一次的部分和未被曝光的部分；其中，所述重叠部分的尺寸由两次曝光时掩膜板的位移差决定，所述光刻胶为负性光刻胶；且当常规曝光量为50mJ时，两次曝光的曝光量均为25mJ以下。
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