[发明专利]化学机械研磨设备及其防止化学机械研磨残留的方法在审
| 申请号： | 201410307530.0 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104128874A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 丁弋;樊文斌 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械研磨设备，包括转盘、铺设于所述转盘上的研磨垫、以及设置于所述研磨垫上方的研磨头、研磨液供应管以及调节器，还包括置于所述调节器中的电机以及分析电机信号的监测分析单元，所述监测分析单元根据所述电机的扭转力矩信号判断所述研磨垫的状态。根据本进行化学机械研磨，通过所述电机控制所述调节器的旋动，以修整研磨垫；所述监测分析单元根据电机的扭转力矩信号实时判断所述研磨垫的状态。本发明提供的化学机械研磨设备及其防止化学机械研磨残留的方法，通过所述电机有效控制所述调节器悬臂的运动，同时通过所述监测分析单元可间接分析待研磨表面是否有残留，及时对化学机械研磨设备查缺补漏。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 设备 及其 防止 残留 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨设备，包括转盘、铺设于所述转盘上的研磨垫、以及设置于所述研磨垫上方的研磨头、研磨液供应管和调节器，其特征在于，还包括设置于所述调节器中的电机以及与所述电机连接的监测分析单元，所述监测分析单元根据所述电机的扭转力矩信号判断所述研磨垫的状态。
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